反滲透設備適用範圍

反滲透

主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質，使出水滿足使用要求。反滲透設備適用範圍

後處理

是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、超濾、EDI等其中的一種或者多種設備。後處理係統能把反滲透的出水水質更好的提高，使之滿足使用要求。

清洗

主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過濾器組成。當反滲透係統受到汙染出水指標不能滿足要求時，需要對反滲透進行清洗使之恢複功效。

電氣控製

是用來控製整個(ge) 反滲透係統正常運行的。包括儀(yi) 表盤、控製盤、各種電器保護、電氣控製櫃等。

清洗方法

反滲透技術因具有特殊的*性而得到日益廣泛的應用。反滲透淨水設備的清洗問題可能使許多技術力量不強的用戶遭受損失，所以要做好反滲透設備的管理，就可以避免出現嚴(yan) 重的問題。

低壓衝(chong) 洗反滲透設備

定期對反滲透設備進行大流量、低壓力、低pH值的衝(chong) 洗有利於(yu) 剝除附著在膜表麵上的汙垢，維持膜性能，或當反滲透設備進水SDI突然升高超過5.5以上時，應進行低壓衝(chong) 洗，待SDI值調至合格後再開機。

反滲透設備停運保護

由於(yu) 生產(chan) 的波動，反滲透設備不可避免地要經常停運，短期或長期停用時必須采取保護措施，不適當地處理會(hui) 導致膜性能下降且不可恢複。

短期保存適用於(yu) 停運15d以下的係統，可采用每1~3d低壓衝(chong) 洗的方法來保護反滲透設備。實踐發現，水溫20℃以上時，反滲透設備中的水存放3d就會(hui) 發臭變質，有大量細菌繁殖。因此，建議水溫高於(yu) 20℃時，每2d或1d低壓衝(chong) 洗一次，水溫低於(yu) 20℃時，可以每3d低壓衝(chong) 洗一次，每次衝(chong) 洗完後需關(guan) 閉淨水設備反滲透裝置上所有進出口閥門。

長期停用保護適用於(yu) 停運15d以上的係統，這時必須用保護液(殺菌劑)充入淨水設備反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(複合膜)為(wei) 甲醛10(質量分數)、異噻唑啉酮20mg/L、亞(ya) 硫酸氫鈉1(質量分數)。

反滲透膜化學清洗

在正常運行條件下，反滲透膜也可能被無機物垢、膠體(ti) 、微生物、金屬氧化物等汙染，這些物質沉積在膜表麵上會(hui) 引起淨水設備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對膜造成不可恢複的損傷(shang) ，因此，為(wei) 了恢複良好的透水和除鹽性能，需要對膜進行化學清洗。

一般3~12個(ge) 月清洗一次，如果每個(ge) 月不得不清洗一次，這說明應該改善的預處理係統，調整的運行參數。如果1~3個(ge) 月需要清洗一次，則需要提高設備的運行水平，是否需要改進預處理係統較難判斷。反滲透設備適用範圍